一 應用領域

適用于材料科學、光學、光電子學、生命科學、電子學、生物醫學、半導體、高分子科學、微觀流體學等領域.

二 主要實驗應用

  1.表面清潔 2.表面活化 3.鍵合 4.去膠 5.金屬還原 6.簡單刻蝕 7.去除表面有機物  8.疏水實驗  9.沉積實驗  10.形成新的基團  11.鍍膜前處理等

三 技術特點

1.實時檢測和顯示真空度,使得設備在智能控制下有了可靠的依據.

2.真空值可自由設定,(范圍:10—60帕)為外加氣體提供了可靠的輝光啟動環境,為輝光純度提供了有利的保障,保證了實驗效果的準確性和可靠性.

3.真空腔體采用鉸鏈側開門結構，帶有觀察窗，材料為6061材質.

4.腔體、管路、閥體全部為不銹鋼材料.

5.電容式（CCP）激發,實驗效果穩定,均勻可靠,電極板置于樣品倉內頂部懸掛.

6.采用觸摸屏顯示控制，手動，自動兩種模式任意切換.

7.程序化設計，預先編輯好程序，儀器自動完成實驗.

8.利用氣(qi)體電離后產(chan)生(sheng)(sheng)的等離子體的反應(ying)活(huo)性與材(cai)料表(biao)面(mian)發(fa)生(sheng)(sheng)的物(wu)理或者化(hua)學(xue)反應(ying)，使材(cai)料表(biao)面(mian)成(cheng)分、組成(cheng)和結構發(fa)生(sheng)(sheng)變(bian)化(hua)，并能得到某(mou)些(xie)特(te)定(ding)的基團。

9.無需耗材,使用成本低,無需特殊進行維護,在日常使用中保持儀器清潔即可。

四 等離子表面處理儀技術規格

1.樣品腔體尺寸：255(深度)X110（直徑）mm ，不銹鋼材質.

2.放置樣品托盤尺寸:105(寬)X230（長）mm，材質：6061鋁氧化本色

3.射頻頻率：40KHz .

4.射頻功率:200W，0到200W可調，精度：1瓦.

5.輝光放電功率：10W--200W

6.輝光放電時間設定：1秒到99分59秒.

7.氣路設置:3氣路（2路進氣，一路放空）.

8.工作氣體穩定時間:可調，可設定，范圍：0--180秒.

9.進氣控制：兩路浮子流量計控制

10.工作氣體:空氣\氮氣\氬氣\氮氫混合氣\氬氦混合氣等均可; 也可接入無腐蝕性、無毒的工作液體溶液，例如:六甲基二硅氧烷(HMDSO)，接入工作液體需要選配接枝儀來配套使用。

11.進氣壓力：通入空氣時常壓，接入鋼瓶時，鋼瓶進氣壓力調整到0.1-0.2Mpa

12.供電電源：~220V／50Hz

13.外形尺寸（寬*深*高）mm:440ⅹ490ⅹ485

14.整機重量（約）：20Kg

五 真空泵  

標準配置為機械油泵：1）抽速:2升/秒 2）極限壓強：6*10-2帕   3）噪音;≤66db 4）抽氣KF16法蘭接口，排氣口KF25接口 5）電源線為陰插線

六 基本配置

主機+真空系統（雙極機械真空油泵、油霧過濾器、真空管、KF16法蘭）、外加氣體軟管、樣品托盤、說明書、電源線、合格證

七 選配件(jian)

（一）機械油泵 型號：VRD-8

1.抽速:2.2升/秒  2.極限壓強：≤5*10-2帕  3.噪音;≤56db   4.工作環境溫度：5—45

（二）干泵（1）  型號：GWSP150

1.抽速:2升/秒  2.極限壓強：≤6帕 3.噪音;≤57db  4.工作環境溫(wen)度：5--45℃

  干泵（2）型號： SPH10

1.抽速:2.8升/秒 2.極限壓強：≤2帕  3.噪音;≤55db

4.工作環境溫度：5--45℃